教員・研究者情報
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後藤 俊夫 GOTO Toshio

プロフィール

職名 副学長、教授
所属 中部大学
総合学術研究院
工学部 電子情報工学科
教員免許更新講習室
全学共通教育部 統括調整部門
全学共通教育部 全学英語教育科
全学共通教育部 健康とスポーツ教育科
全学共通教育部 全学総合教育科
全学共通教育部 教職課程教育科
ディプロマ戦略室
最終学歴 名古屋大学大学院工学研究科
学位 工学博士(名古屋大学)
所属学会・役職 応用物理学会
電子情報通信学会
電気学会
レーザー学会
IEEE
IOP
専門分野 光量子工学、電子工学
研究テーマ レーザーの半導体プロセスへの応用、レーザーの量子光学及びファイバー工学への応用
授業科目 レーザー工学

著書および訳書

Advances in Atomic, Molecular and Optical Physics(共著)、Academic Press, 2001

応用物理学用語大事典(共著)、オーム社, 1998年

フリーラジカルの科学(共著)、学会出版センター, 1997年

量子エレクトロニクス(共著)、昭晃堂, 1997年

電気磁気学(共著)、昭晃堂, 1993年

プラズマ材料科学ハンドブック(共著)、オーム社, 1992年

学術論文、評論

Effects of Oxygen and Nitrogen Atoms on SiOCH Film Etching in Ultrahigh-Frequency Plasma, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.42, No.3B, 2003

Widely Broadened Super Continuum Generation Using Highly Nonlinear Dispersion Shifted

Fibers and Femtosecond Fiber Laser, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.40, No.4B, 2001

Compact System of Wavelength-Tunable Femtosecond Soliton Pulse Generation Using

Optical Fibers, IEEE Photon. Technol. Lett., Vol.11, No.3, 1999

Radical Behavior in Fluorocarbon Plasma and Control of Silicon Oxide Etching by Injection of Radicals, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.35, No.12B, 1996

Measurement of the CF3 Radical Using Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy, J. Phys. D, Vol.26, No.1, 1993

Control of Fluorocarbon Radicals by On-Off Modulated Electron Cyclotron Resonance Plasma, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.32, No8A, 1993

Spatial Distribution of SiH3 Radicals in RF Silane Plasma, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.29, No.10, 1990

Excitation Mechanism of the Cd(II) 441.6nmLaser in the Positive Column He-Cd Discharge, IEEE J. Quantum Electron., Vol.QE-14, No.6, 1978

Properties of Inductively Excited Ar+ Ion Lasers in High-Current Regions, J. Appl. Phys., Vol.39, No.13, 1968

その他約260編

研究報告等約80件

講演、シンポジウム、学会発表

国際会議発表約340件

社会活動

応用物理学会の会長、副会長、常務理事、監事、評議員、東海支部長

日本工学アカデミー理事

レーザー学会の評議員、中部支部長

日本工学教育協会理事

東海工学教育協会副会長

第19期日本学術会議会員

応用物理学研究連絡委員会委員長

文部省学術審議会専門委員(科学研究費分科会)

通商産業省産業技術審議会及び産業構造審議会委員

科学技術振興機構創造的基礎研究審査委員

NEDO関係委員会委員

その他

特許約60件

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